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鄭州晶品知識普及|拋光、拋光用磨料與拋光劑

拋光概述

  (一)拋光簡介

  拋光一般指對工作表面進(jìn)行的最終的光飾加工。主要目的是去除前道工序的加工痕跡(刀痕、磨紋、劃印、麻點(diǎn)尖棱、毛刺等),改善工件的表面粗糙度或使產(chǎn)品獲得光亮光滑的表面。作為中間工序,拋光是為涂裝、電鍍等后續(xù)工序提供涂膜、鍍層附著能力強(qiáng)的表面,以提高涂裝、電鍍的質(zhì)量。經(jīng)拋光后的工作表面粗糙度值一般可達(dá)Ra0.4μm以下。

  (二)拋光機(jī)理

  拋光加工模型如下圖所示,其機(jī)理有以下幾種作用。

拋光加工模型

  (1) 微切削作用。主要指磨粒切除微量切屑。

  (2) 塑性流動(dòng)作用。由于摩擦,接觸點(diǎn)溫度上升而引起的熱塑性流動(dòng)。

  (3) 彈性破壞作用。在晶體結(jié)構(gòu)材料中,由于晶格缺陷的存在,一般大約在1μm的間隔內(nèi)就有一個(gè)位缺缺陷。在精密拋光時(shí),其加工應(yīng)力的作用范圍是在位錯(cuò)缺陷平均分布間隔(1μm)以內(nèi)的區(qū)域,因此無塑性破壞,業(yè)務(wù)殘留變質(zhì)層,而是原子單位級的彈性破壞。

  (4) 化學(xué)作用。如在拋光劑中添加活性物質(zhì),則在拋光時(shí)活性物質(zhì)會(huì)與被加工表面材料起化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生某種生成膜,被磨粒反復(fù)去除。

 

  拋光用磨料與拋光劑

  (一)拋光用軟磨料

  拋光用軟磨料的種類和特性見下表

拋光用軟磨料的種類和特征

  (二)拋光劑

  由粉粒狀的拋光用軟磨料與油及其他適當(dāng)成分介質(zhì)混合而成。拋光劑的種類很多,在常溫下可分為固體及液體兩種。固體拋光劑由可分為油脂性和非油脂性兩類。液體拋光劑又大致分為乳濁狀型、液狀油脂型及液狀非油脂型三類。用得較多的是固體拋光劑,其種類及用途見下表。

固體拋光劑的種類和用途

  在固體拋光劑中使用最普通的是熔融氧化鋁,它和拋光輪見的膠接牢靠,碳化硅則較差。使用受到一定的限制。

  液中拋光用的拋光液,一般采用由氧化鉻和乳化液混合而成的液體。氧化鉻要嚴(yán)格經(jīng)5~10層細(xì)紗布過濾,過濾后的磨粒粒度相當(dāng)于W5~W0.5.拋光液應(yīng)保持清潔,若含有雜質(zhì)或氧化鉻和乳化液混合不均勻,會(huì)使拋光表面產(chǎn)生“桔皮”、“小白點(diǎn)”、“劃圈”等缺陷,此外還須注意工作環(huán)境的清潔。從粗拋過渡到精拋,要逐漸減少氧化鉻在拋光液中的比例,精拋時(shí)氧化鉻所占比例極小。

 
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